Chemical Solution Growth and Oxygen Diffusion Behavior of Doped CeO2？δ Buffers in Coated Conductors
Chemical Solution Growth and Oxygen Diffusion Behavior of Doped CeO2？δ Buffers in Coated Conductors
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涂层导体中掺杂 CeO2 缓冲液的化学溶液生长和氧扩散行为
DOI：
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发表时间：
2016
影响因子：
1.8
通讯作者：
CS Li
中科院分区：
文献类型：
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作者：
JY Liu;JF Lv;JF Huang;CS Li
