次世代透明半導体・高密度窒化ホウ素のプラズマ・レーザによる低コスト合成法/Fundamental studies on the low-cost production of high-density BN films by laser-plasma synchronous vapor deposition methods for the next-generation transparent wide bandgap semiconductor materials
次世代透明半導体・高密度窒化ホウ素のプラズマ・レーザによる低コスト合成法/Fundamental studies on the low-cost production of high-density BN films by laser-plasma synchronous vapor deposition methods for the next-generation transparent wide bandgap semiconductor materials
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激光等离子体同步气相沉积法低成本制备高密度BN薄膜用于下一代透明宽带隙半导体材料的基础研究
DOI：
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发表时间：
2010
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
小松正二郎,知京豊裕,小林一昭
中科院分区：
文献类型：
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作者：
澤田大輔;並川峻;平垣倍弘;杉本宜昭;阿部真之;森田清三;小松正二郎;小松正二郎,小林一昭,長田貴弘,知京豊裕;Yoshiaki Sugimoto;小松正二郎,小林一昭;小松正二郎,知京豊裕,小林一昭
