津田穣,笈川節子: "On the primary process in the plasma-chemical and photochemical vapor deposition from silane.III.Mechanism of the radiative species Si^*(^1P^0)" Journal of Chemical Physics. 91. 6822-6829 (1989)
津田穣,笈川節子: "On the primary process in the plasma-chemical and photochemical vapor deposition from silane.III.Mechanism of the radiative species Si^*(^1P^0)" Journal of Chemical Physics. 91. 6822-6829 (1989)
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Jo Tsuda，Setsuko Omakawa：“关于硅烷等离子体化学和光化学气相沉积的主要过程。III.辐射物质 Si^*(^1P^0) 的机理”化学物理杂志 91。6822-6829 (1989)
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