点欠陥発生を介したSi酸化反応機構

点欠陥発生を介したSi酸化反応機構
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通过点缺陷产生的硅氧化反应机理

DOI:
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发表时间:
2020
期刊:
影响因子:
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通讯作者:
高桑雄二
高桑雄二
中科院分区:
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文献类型:
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作者:
小川修一;高桑雄二

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