ミスト CVD 法による高 Mg 組成 Ni1-xMgxO 薄膜のエピタキシャル成長
ミスト CVD 法による高 Mg 組成 Ni1-xMgxO 薄膜のエピタキシャル成長
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雾气CVD法外延生长高Mg成分Ni1-xMgxO薄膜
DOI：
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发表时间：
2021
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
平藤 哲司
中科院分区：
文献类型：
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作者：
孫 芸華;池之上 卓己;三宅 正男;平藤 哲司
