Blister Formation in Rutile T102 (100) Thin Films by Helium Ion Implantation
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通过氦离子注入在金红石 T102 (100) 薄膜中形成气泡
DOI：
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发表时间：
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期刊：
影响因子：
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通讯作者：
吉川正人
中科院分区：
文献类型：
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作者：
山本春也;永田晋二;武山昭憲;吉川正人
