K.Kubota,et al.: "Measurement of Fluorocarbon Radicals generated from C_4F_8/H_2 Inductively Coupled Plasma:Study on SiO_2 Selective Etching Kinetics" Proc.Sympo.on Dry Process. 205-211 (1994)
K.Kubota,et al.: "Measurement of Fluorocarbon Radicals generated from C_4F_8/H_2 Inductively Coupled Plasma:Study on SiO_2 Selective Etching Kinetics" Proc.Sympo.on Dry Process. 205-211 (1994)
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K.Kubota 等人：“C_4F_8/H_2 感应耦合等离子体产生的氟碳自由基的测量：SiO_2 选择性蚀刻动力学的研究”Proc.Sympo.on Dry Process。
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