Atomistic Etching Mechanisms of SiO_2 Surface by Fluorocarbon Radicals : Quantum Chemical Molecular Dynamics Simulations
Atomistic Etching Mechanisms of SiO_2 Surface by Fluorocarbon Radicals : Quantum Chemical Molecular Dynamics Simulations
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氟碳自由基对 SiO_2 表面的原子刻蚀机理：量子化学分子动力学模拟
DOI：
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发表时间：
2013
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
Momoji Kubo
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Hiroshi Ito;Takuya Kuwahara;Yuji Higuchi;Nobuki Ozawa;Seiji Samukawa;Momoji Kubo
