New Chemical Planarization of SiC and GaN using Fe plate in H_2_2 solution
New Chemical Planarization of SiC and GaN using Fe plate in H_2_2 solution
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在 H_2_2 溶液中使用 Fe 板对 SiC 和 GaN 进行新型化学平坦化
DOI:
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发表时间:
2007
期刊:
影响因子:
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通讯作者:
H. Mimura and K. Yamauchi
中科院分区:
文献类型:
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作者:
J. Murata;A. Kubota;K. Yagi;Y. Sano;H. Hara;K. Arima;T. Okamoto;H. Mimura and K. Yamauchi