遷移金属錯体によるE-X結合 (E = Si, Ge; X = halogen)の切断とその反応機構の研究
遷移金属錯体によるE-X結合 (E = Si, Ge; X = halogen)の切断とその反応機構の研究
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过渡金属配合物断裂E-X键（E=Si、Ge；X=卤素）及其反应机理研究
DOI：
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发表时间：
2015
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
松坂裕之
中科院分区：
文献类型：
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作者：
池田耕己;亀尾 肇;中沢 浩;松坂裕之
