X-ray reflectivity measurement of a iridium coated MEMS optic with atomic layer deposition
X-ray reflectivity measurement of a iridium coated MEMS optic with atomic layer deposition
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使用原子层沉积对镀铱 MEMS 光学器件进行 X 射线反射率测量
DOI：
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发表时间：
2012
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
T. Ogawa et al.,
中科院分区：
文献类型：
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作者：
K.Takahashi;S.Mima;S.Oguri;C.Otani;O.Tajima;H.Watanabe;M.Yoshida;T. Kakiuchi et al.,;吉田鉄平;S. Umehara;山口祐史郎;T. Ogawa et al.,
