酸化レートの変化からみた4H-SiC Si面ウェット酸化雰囲気中に共存する酸素の役割
酸化レートの変化からみた4H-SiC Si面ウェット酸化雰囲気中に共存する酸素の役割
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从氧化速率变化角度分析4H-SiC Si表面湿式氧化气氛中共存氧的作用
DOI:
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发表时间:
2017
期刊:
影响因子:
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通讯作者:
石野田圭,平井悠久,喜多浩之
中科院分区:
文献类型:
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作者:
Atsuo Sadakata;Dai Taguchi;Takaaki Manaka;Mitsumasa Iwamoto;石野田圭,平井悠久,喜多浩之