S.Sugahara et al.: "Oxidation mechanism of fluorocarbon in corporated Silica for interlayer dielectric materials"Materials Science in Semiconductor Processing. (2000)
S.Sugahara et al.: "Oxidation mechanism of fluorocarbon in corporated Silica for interlayer dielectric materials"Materials Science in Semiconductor Processing. (2000)
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S.Sugahara 等人：“用于层间介电材料的二氧化硅中氟碳化合物的氧化机制”《半导体加工材料科学》。
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