Effects of Substrate Bias on High-Rate Synthesis of Microcrystalline Silicon Films Using a High-Density Microwave SiH_4/H_2 Plasm
Effects of Substrate Bias on High-Rate Synthesis of Microcrystalline Silicon Films Using a High-Density Microwave SiH_4/H_2 Plasm
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衬底偏压对高密度微波SiH_4/H_2等离子体高速合成微晶硅薄膜的影响
DOI：
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发表时间：
2006
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
H.Shirai
中科院分区：
文献类型：
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作者：
H.Jia;J.K.Saha;N.Ohse;H.Shirai
