Y.Kanamori,M.Sasaki,K.Hane: "Antireflection structures for visible and infrared wave lengths fabricated on silicon substrates by fast atom beam etching" Proc.Opt.Eng.for Sensing and Nanotechnology. 1(印刷中). (1999)
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Y.Kanamori、M.Sasaki、K.Hane：“通过快速原子束蚀刻在硅基底上制造可见光和红外波长的抗反射结构”Proc.Opt.Eng.for Sensing and Nanotechnology 1（正在出版）。 ）
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