Akira Ando: "Effects of the Reaction Pressure on the Growth of PbTiO_3 Thin Films by the Photo-Chemical Vapor Deposition Method." Japanese Journal of Applied Physics. 31. 3001-3004 (1992)
Akira Ando: "Effects of the Reaction Pressure on the Growth of PbTiO_3 Thin Films by the Photo-Chemical Vapor Deposition Method." Japanese Journal of Applied Physics. 31. 3001-3004 (1992)
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Akira Ando：“反应压力对光化学气相沉积法 PbTiO_3 薄膜生长的影响”。
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