K.Murase: "Electrochemical Behavior of Copper in Trimethyl-n-hexylammonium Bis((trifluoromethyl)sulfonyl)amide, an Ammonium Imide Type RTMS"Journal of Applied Electrochemistry. 31・10. 1089-1094 (2001)
K.Murase: "Electrochemical Behavior of Copper in Trimethyl-n-hexylammonium Bis((trifluoromethyl)sulfonyl)amide, an Ammonium Imide Type RTMS"Journal of Applied Electrochemistry. 31・10. 1089-1094 (2001)
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K.Murase：“三甲基正己基铵双((三氟甲基)磺酰基)酰胺中铜的电化学行为，亚胺型RTMS”应用电化学杂志31・10 (2001)。
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