Y. Matsuda, K. Tashiro, K. Otomo, and H. Fujiyama: "New Reactive Sputtering Model Considering the Effect of the Electron Emission Coefficiency for MgO Deposition"IEICE Trans. Electron.. Vol.E84-C,No.11. 1667-16t72 (2001)
Y. Matsuda, K. Tashiro, K. Otomo, and H. Fujiyama: "New Reactive Sputtering Model Considering the Effect of the Electron Emission Coefficiency for MgO Deposition"IEICE Trans. Electron.. Vol.E84-C,No.11. 1667-16t72 (2001)
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Y. Matsuda、K. Tashiro、K. Otomo 和 H. Fujiyama：“考虑电子发射系数对 MgO 沉积影响的新型反应溅射模型”IEICE Trans。
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