スパッタ成膜によるGe(100)基板上への高品質単結晶GeSn層のエピタキシャル成長
スパッタ成膜によるGe(100)基板上への高品質単結晶GeSn層のエピタキシャル成長
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溅射沉积在Ge(100)衬底上外延生长高质量单晶GeSn层
DOI：
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发表时间：
2023
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
渡部 平司
中科院分区：
文献类型：
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作者：
田中 信敬;國吉 望月;安部 和弥;星原 雅生;小林 拓真;志村 志功;渡部 平司
