A simple autofocus system for large-scale, two-photon microstereolithography
A simple autofocus system for large-scale, two-photon microstereolithography
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用于大规模双光子显微立体光刻的简单自动对焦系统
DOI：
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发表时间：
2019
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
and S. Maruo
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Yoko Fujishiro;T. Furukawa;and S. Maruo
