MPCVD法により成膜した導電性ダイヤモンド薄膜の表面化学修飾の評価
MPCVD法により成膜した導電性ダイヤモンド薄膜の表面化学修飾の評価
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MPCVD法沉积导电金刚石薄膜表面化学改性评价
DOI：
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发表时间：
2010
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
村上理一
中科院分区：
文献类型：
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作者：
山田剛司;延原由起;崎原雅之;平方寛之;箕島弘二;琵琶志朗;山田 剛司;村上理一
