Mechanism of Modification of in Si-O-Si Structure in Porous SiOCH Low-k Films by H2/N2 plasma
Mechanism of Modification of in Si-O-Si Structure in Porous SiOCH Low-k Films by H2/N2 plasma
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H2/N2 等离子体对多孔 SiOCH Low-k 薄膜中 Si-O-Si 结构的改性机理
DOI：
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发表时间：
2010
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
山本洋
中科院分区：
文献类型：
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作者：
寺村佳子;前田新一;山本洋
