マイクロ波励起プラズマを用いたMoS2薄膜の硫黄欠陥形成におけるイオン遮蔽の影響
マイクロ波励起プラズマを用いたMoS2薄膜の硫黄欠陥形成におけるイオン遮蔽の影響
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微波激发等离子体离子屏蔽对 MoS2 薄膜中硫缺陷形成的影响
DOI：
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发表时间：
2020
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
荻野 明久
中科院分区：
文献类型：
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作者：
都築 聖親;荻野 明久
