D. W. Gao: "Deposition of high-quality silicon oxynitride film at low temperature by using a sputtering-type electron cyclotron resonance plasma" Jpn. J. Appl. Phys.36. L1692-L1694 (1997)
D. W. Gao: "Deposition of high-quality silicon oxynitride film at low temperature by using a sputtering-type electron cyclotron resonance plasma" Jpn. J. Appl. Phys.36. L1692-L1694 (1997)
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D.W.Gao：“利用溅射型电子回旋共振等离子体在低温下沉积高质量的氮氧化硅薄膜”Jpn.
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