Masaru Hori: "Surfce Reaction of CF2 Radicals in Silicon Oxide Selective Etching Procss" International Workshop on Basic Aspects of Nonequilibrium Plasmas Interacting with Surface. 1. 11-12 (1966)
Masaru Hori: "Surfce Reaction of CF2 Radicals in Silicon Oxide Selective Etching Procss" International Workshop on Basic Aspects of Nonequilibrium Plasmas Interacting with Surface. 1. 11-12 (1966)
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Masaru Hori：“二氧化硅选择性蚀刻过程中 CF2 自由基的表面反应”非平衡等离子体与表面相互作用基本方面的国际研讨会。
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