T.Noma: "Structural stabilization induced by oxygen plasma post-exposure of SiO_2 films from TEOS" J.Phys.D : Appl.Phys.3月掲載予定. (1997)
T.Noma: "Structural stabilization induced by oxygen plasma post-exposure of SiO_2 films from TEOS" J.Phys.D : Appl.Phys.3月掲載予定. (1997)
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T.Noma：“TEOS 中 SiO_2 薄膜的氧等离子体后曝光引起的结构稳定性”J.Phys.D：Appl.Phys 计划于 3 月出版（1997 年）。
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