Akira Izumi,Hidekazu Sato,Shingi Hashioka,Manabu Kudo,and Hideki Matsumura: "Plasma and fluorocarbon-gas free Si dry etching process using a Cat-CVD system"Microelectronic Engineering. 51-52. 493-503 (2000)
Akira Izumi,Hidekazu Sato,Shingi Hashioka,Manabu Kudo,and Hideki Matsumura: "Plasma and fluorocarbon-gas free Si dry etching process using a Cat-CVD system"Microelectronic Engineering. 51-52. 493-503 (2000)
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Akira Izumi、Hidekazu Sato、Shingi Hashioka、Manabu Kudo 和 Hideki Matsumura：“使用 Cat-CVD 系统的等离子和无碳氟化合物气体硅干法蚀刻工艺”微电子工程。
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