N.Fujimura,S.Tachibana,T.Ito: "Effects of External Stress on structure for WSi_<2.6> thin Films." Journal of Appl.Phys.
N.Fujimura,S.Tachibana,T.Ito: "Effects of External Stress on structure for WSi_<2.6> thin Films." Journal of Appl.Phys.
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N.Fujimura、S.Tachibana、T.Ito：“外部应力对 WSi_<2.6> 薄膜结构的影响。”
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