KINETICS OF HIGH-TEMPERATURE THERMAL-DECOMPOSITION OF SIO2 ON SI(100)

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DOI:
10.1116/1.574564
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发表时间:
1987-07-01
期刊:
JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY A-VACUUM SURFACES AND FILMS
影响因子:
--
通讯作者:
RUBLOFF, GW
RUBLOFF, GW
中科院分区:
其他
文献类型:
--
作者:
LIEHR, M;LEWIS, JE;RUBLOFF, GW

文献摘要

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