Plasma deposition of amorphous silicon-based materials
Plasma deposition of amorphous silicon-based materials
复制标题
非晶硅基材料的等离子体沉积
DOI：
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发表时间：
1995
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
A. Madan
中科院分区：
文献类型：
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作者：
G. Bruno;P. Capezzuto;A. Madan
