Chemical Reactions at Friction Interface during Chemical Mechanical Polishing of Gallium Nitride Assisted by OH Radicals
Chemical Reactions at Friction Interface during Chemical Mechanical Polishing of Gallium Nitride Assisted by OH Radicals
复制标题
OH自由基辅助氮化镓化学机械抛光过程中摩擦界面的化学反应
DOI：
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发表时间：
2015
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
Momoji Kubo
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Kentaro Kawaguchi;Yuji Higuchi;Nobuki Ozawa;Momoji Kubo
