超臨界流体を用いたチタニア多孔質薄膜内への化合物半導体成膜
超臨界流体を用いたチタニア多孔質薄膜内への化合物半導体成膜
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使用超临界流体在二氧化钛多孔薄膜中沉积化合物半导体
DOI：
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发表时间：
2013
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
本間 格
中科院分区：
文献类型：
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作者：
渡辺伸司;矢中美紀;笘居高明;本間 格
