Teiichi Hanada: "Preparation and Physical Properties of RfーSputtered Amorphous Films in the System ZrO_2ーAl_2O_3" Advanes in Ceramics. 24. 319-327 (1988)
Teiichi Hanada: "Preparation and Physical Properties of RfーSputtered Amorphous Films in the System ZrO_2ーAl_2O_3" Advanes in Ceramics. 24. 319-327 (1988)
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Teiichi Hanada：“ZrO_2-Al_2O_3 系统中射频溅射非晶薄膜的制备和物理性能”Advanes in Ceramics。 24. 319-327 (1988)
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