Structure and tribological property of MoSx-CrTiAlN film by unbalanced magnetron sputtering
Structure and tribological property of MoSx-CrTiAlN film by unbalanced magnetron sputtering
复制标题
DOI：
10.1016/j.vacuum.2011.05.010
复制
发表时间：
2011-09
期刊：
影响因子：
4
通讯作者：
Yongjing Shi;F. Pan;Siyuan Long;Wei-qing Wang;Guangjun Zhu
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
Yongjing Shi;F. Pan;Siyuan Long;Wei-qing Wang;Guangjun Zhu
