Tadashi Shiosaki 他4名: "Highly Oriented Nb-Doped Lead Titanate Thin Films by Reactive Sputtering: Fabrication and structure Analysis" Japan Journal of Applied Physics. Vol,37. 4539-4543 (1998)
Tadashi Shiosaki 他4名: "Highly Oriented Nb-Doped Lead Titanate Thin Films by Reactive Sputtering: Fabrication and structure Analysis" Japan Journal of Applied Physics. Vol,37. 4539-4543 (1998)
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Tadashi Shiosaki 等 4 人：“通过反应溅射制备高取向铌掺杂钛酸铅薄膜：制造和结构分析”，《日本应用物理学杂志》，第 37 卷，4539-4543（1998 年）。
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