GaN基板研磨プロセスにおける基板表面のステップ構造が研磨特性に及ぼす影響の解明：量子分子動力学シミュレーション
GaN基板研磨プロセスにおける基板表面のステップ構造が研磨特性に及ぼす影響の解明：量子分子動力学シミュレーション
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阐明GaN衬底抛光过程中衬底表面台阶结构对抛光性能的影响：量子分子动力学模拟
DOI：
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发表时间：
2015
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
久保百司
中科院分区：
文献类型：
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作者：
河口健太郎;樋口祐次;尾澤伸樹;久保百司
