Low-temperature two-step graphene growth using interfacial CVD with molten gallium
Low-temperature two-step graphene growth using interfacial CVD with molten gallium
复制标题
使用熔融镓界面 CVD 进行低温两步石墨烯生长
DOI：
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发表时间：
2015
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
and J. Fujita
中科院分区：
文献类型：
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作者：
A. Hirukawa;T. Kuwajima;T. Hiyama;S. Enomoto;N. Ozawa;K. Murakami;and J. Fujita
