NaCl水溶液へのパルス大強度相対論的電子ビーム照射によるOHラジカル生成量の算出
NaCl水溶液へのパルス大強度相対論的電子ビーム照射によるOHラジカル生成量の算出
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计算脉冲高强度相对论电子束照射 NaCl 水溶液产生的 OH 自由基的量
DOI：
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发表时间：
2022
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
長谷川 聡一，Kladphet Thanet，高橋 一匡，佐々木 徹，菊池 崇志，今田 剛
中科院分区：
文献类型：
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作者：
T. Hamada;K. Nakamoto;I. Nanno;N. Ishikura;S. Oke;M. Fujii;桶真一郎，阿利望未，大竹秀明;清浦皐生，堺和人;角凌佑，菊池崇志，佐々木徹，高橋一匡，樫根健史，斎藤栄輔，田村文裕，内田雄大;上野秀樹，岡田 翔，三ツ橋昂起，比田悠斗，谷 直樹;村上淳，濱田俊之，桶真一郎，石倉規雄，藤井雅之，南野郁夫;戸田荘明，堺和人;道田竜一，岡村裕太，野坂優介，平田拓也，藤井雅之，南野郁夫，濱田俊之，桶真一郎，石倉規雄;八木原駿一，堺和人;森 壮流，西村泰介，高橋一匡，佐々木徹，菊池崇志，今田 剛;山本薫平，南野郁夫，濱田俊之，藤井雅之，平田拓也，桶真一郎，石倉規雄;三ツ橋昂起，比田悠斗，岡田 翔，上野秀樹;長谷川 聡一，Kladphet Thanet，高橋 一匡，佐々木 徹，菊池 崇志，今田 剛
