ダイナミックオーロラPLD法による磁場印加成膜したホモエピタキシャル成長SrTiO3薄膜の応力誘起強誘電性
ダイナミックオーロラPLD法による磁場印加成膜したホモエピタキシャル成長SrTiO3薄膜の応力誘起強誘電性
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使用动态极光 PLD 方法通过磁场生长同质外延生长的 SrTiO3 薄膜的应力诱导铁电性
DOI：
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发表时间：
2011
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
脇谷尚樹
中科院分区：
文献类型：
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作者：
山下清隆;坂元尚紀;符徳勝;木口賢紀;篠崎和夫;鈴木久男;脇谷尚樹
