A.M.Wrobel et al.: "Reactivity of alkylsilanes and alkylcarbosilanes in atomic hydrogen induced chemical vapor deposition" J.Electrochemi.Soc.145. 1060-1065 (1998)
A.M.Wrobel et al.: "Reactivity of alkylsilanes and alkylcarbosilanes in atomic hydrogen induced chemical vapor deposition" J.Electrochemi.Soc.145. 1060-1065 (1998)
复制标题
A.M.Wrobel 等人：“原子氢诱导化学气相沉积中烷基硅烷和烷基碳硅烷的反应性”J.Electrochemi.Soc.145。
DOI：
--
复制
发表时间：
--
期刊：
影响因子：
--
通讯作者：
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
