CH4/H2プラズマを用いた酸化グラフェンからの2層グラフェン生成

CH4/H2プラズマを用いた酸化グラフェンからの2層グラフェン生成
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使用 CH4/H2 等离子体从氧化石墨烯生产双层石墨烯

DOI:
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发表时间:
2017
期刊:
影响因子:
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通讯作者:
斉木 幸一朗
斉木 幸一朗
中科院分区:
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文献类型:
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作者:
小幡 誠司;斉木 幸一朗

文献摘要

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