T. Matsuura, H. Uetake, T. Ohmi, J. Murota, and S. Ono.: "Anisotropic etching process of n^+-polysilicon with chlorine and nitrogen mixed ECR plasma" Extended Abstracts 179th Electrochemical Society. May. 521-522 (1991)
T. Matsuura, H. Uetake, T. Ohmi, J. Murota, and S. Ono.: "Anisotropic etching process of n^+-polysilicon with chlorine and nitrogen mixed ECR plasma" Extended Abstracts 179th Electrochemical Society. May. 521-522 (1991)
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T. Matsuura、H. Uetake、T. Ohmi、J. Murota 和 S. Ono.：“使用氯和氮混合 ECR 等离子体对 n^ -多晶硅进行各向异性蚀刻工艺”扩展摘要第 179 届电化学会。
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