Synthesis of thick and high quality cubic boron nitride films by r.f. bias assisted d.c. jet plasma chemical vapor deposition
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DOI：
10.1016/j.diamond.2004.02.010
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发表时间：
2004-09
影响因子：
4.1
通讯作者：
J. Yu;S. Matsumoto
中科院分区：
文献类型：
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作者：
J. Yu;S. Matsumoto
