スパッタ法により成膜したCr-Ge-Te化合物薄膜の相変化挙動
スパッタ法により成膜したCr-Ge-Te化合物薄膜の相変化挙動
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溅射法沉积Cr-Ge-Te化合物薄膜的相变行为
DOI：
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发表时间：
2019
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
須藤祐司
中科院分区：
文献类型：
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作者：
畑山祥吾;安藤大輔;須藤祐司
