T.Hanada,T.Yoshitake and K.Nagayama: "LOW TEMPERATURE GROWTH OF BETA-FESI2 THIN FILMS ON SI (111)"Proceeding of Cross Straits Symposium on Materials, Energy and Environment Sciences. 111-112 (1999)
T.Hanada,T.Yoshitake and K.Nagayama: "LOW TEMPERATURE GROWTH OF BETA-FESI2 THIN FILMS ON SI (111)"Proceeding of Cross Straits Symposium on Materials, Energy and Environment Sciences. 111-112 (1999)
复制标题
T.Hanada、T.Yoshitake 和 K.Nagayama：“SI (111) 上 BETA-FESI2 薄膜的低温生长”海峡两岸材料、能源与环境科学研讨会论文集。
DOI：
--
复制
发表时间：
--
期刊：
影响因子：
--
通讯作者：
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
