Host-crystal orientation effects on SiGe epitaxial films grown by annealing Al-Ge alloyed pastes
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通过退火 Al-Ge 合金浆料生长的 SiGe 外延薄膜的主晶取向效应
DOI：
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发表时间：
2022
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
Noritaka Usami
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Keisuke Fukuda;Satoru Miyamoto;Shota Suzuki;Masahiro Nakahara;Marwan Dhamrin;Kensaku Maeda;Kozo Fujiwara;Noritaka Usami
