Ion generation and loading of a Penning trap using pulsed laser ablation
Ion generation and loading of a Penning trap using pulsed laser ablation
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使用脉冲激光烧蚀的潘宁阱的离子生成和加载
DOI：
10.1088/1367-2630/ab6066
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发表时间：
2020
影响因子：
3.3
通讯作者：
Sameed M
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
Sameed M
我们研究了铝和铍离子的生产，通过脉冲激光烧蚀使用355 nm波长和5 ns长的激光脉冲。Al+和Be+的消融阈值为0.9±0.1（stat.）±0.3（系统）J cm-2和1.4±0.1（静态）±0.4（系统）J cm-2。通过采用静电阻滞电位，烧蚀离子的动能分布的特征在于作为激光能量密度的函数。在烧蚀阈值附近，我们可靠地产生了10 - 8和10 - 10之间的离子，其中约5%被动态捕获在彭宁-马尔姆伯格陷阱。
We investigated the production of aluminum and beryllium ions via pulsed laser ablation using 355 nm wavelength and 5 ns long laser pulses. The ablation threshold of Al+ and Be+ was measured to be 0.9±0.1 (stat.)±0.3 (syst.) J cm− 2 and 1.4±0.1 (stat.)±0.4 (syst.) J cm− 2 respectively. By employing electrostatic retarding potentials, the kinetic energy profile of the ablated ions was characterized as a function of laser fluence. Around the ablation threshold, we reliably produced between 10 8 and 10 10 ions, approximately 5% of which were dynamically trapped in a Penning–Malmberg trap.
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影响因子：
2.9
作者：
Z. Andelkovic;R. Cazan;W. Nortershauser;S. Bharadia;D. Segal;R. Thompson;R. Johren;J. Vollbrecht;V. Hannen;M. Vogel
通讯作者：
Z. Andelkovic;R. Cazan;W. Nortershauser;S. Bharadia;D. Segal;R. Thompson;R. Johren;J. Vollbrecht;V. Hannen;M. Vogel
影响因子：
2.9
作者：
Jelenkovic, BM;Newbury, AS;Mitchell, TB
通讯作者：
Mitchell, TB
激光冷却离子在潘宁阱中的应用
DOI：
--
发表时间：
2009
期刊：
影响因子：
--
作者：
R. Thompson;S. Donnellan;D. Crick;D. M. Segal
通讯作者：
D. M. Segal
用于（反）质子精确测量的低温 9Be 潘宁阱
影响因子：
2.4
作者：
M. Niemann;T. Meiners;J. Mielke;M. Borchert;J. M. Cornejo;S. Ulmer;C. Ospelkaus
通讯作者：
C. Ospelkaus
通过激光烧蚀装载 Th 离子的质谱离子阱，用于核频率标准应用
影响因子：
1.3
作者：
P. V. Borisyuk;S. Derevyashkin;K. Khabarova;N. Kolachevsky;Y. Lebedinsky;S. Poteshin;A. Sysoev;E. V. Tkalya;D. Tregubov;V. I. Troyan;O. Vasiliev;V. Yakovlev;V. Yudin
通讯作者：
V. Yudin