T.Hashizume: "Depletion characteristics of Direct Schottky Contacts to Ouantum Wel1s Formed by In Situ Selective Electrochemical Process" Jpn.J.Appl.Phys. 34. 1149-1152 (1995)
T.Hashizume: "Depletion characteristics of Direct Schottky Contacts to Ouantum Wel1s Formed by In Situ Selective Electrochemical Process" Jpn.J.Appl.Phys. 34. 1149-1152 (1995)
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T.Hashizume：“通过原位选择性电化学过程形成的 Ouantum Wel1s 直接肖特基接触的耗尽特性”Jpn.J.Appl.Phys。
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