SiO_x膜へのプラズマジェット照射ミリ秒熱処理によるSiナノ結晶形成とそのフローティングゲートメモリ応用(II)
SiO_x膜へのプラズマジェット照射ミリ秒熱処理によるSiナノ結晶形成とそのフローティングゲートメモリ応用(II)
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SiO_x薄膜等离子体射流辐照毫秒热处理形成硅纳米晶及其浮栅存储器应用（二）
DOI：
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发表时间：
2009
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
岡田竜弥
中科院分区：
文献类型：
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作者：
T. Okada;T. Okada;H. Furukawa;H. Furukawa;T. Yorimoto;T. Okada;岡田竜弥
