固相成長法による Si(001)基板上の伸長歪み Ge1-xSnx薄膜の形成
固相成長法による Si(001)基板上の伸長歪み Ge1-xSnx薄膜の形成
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固相生长法在Si(001)衬底上形成拉伸应变Ge1-xSnx薄膜
DOI：
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发表时间：
2023
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
黒澤昌志
中科院分区：
文献类型：
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作者：
平出達磨;大岩樹;柴山茂久;坂下満男;中塚理;黒澤昌志
